| 
Полиномиальная модель химико-механической планаризации в производстве субмикронных СБИС
| Авторы: Амирханов А.В., Гладких А.А., Макарчук В.В., Пшенников А.Г., Шахнов В.А. | Опубликовано: 09.09.2013 |
| Опубликовано в выпуске: #2(87)/2012 | |
| DOI: | |
| Раздел: Конструирование и технология | |
| Ключевые слова: химико-механическая планаризация, кристалл, межслойная изоляция, многоуровневая металлизация, длина планаризации, выход годных, СБИС, топология, свертка, полином | |
Рассмотрены особенности технологической операции химикомеханической планаризации при формировании межслойной изоляции в СБИС. Проведен анализ модели операции химикомеханической планаризации на основе преобразованного уравнения Престона и модели, учитывающей временную зависимость скорости планаризации. Предложена полиномиальная модель химико-механической планаризации. Проведено сравнение результатов моделирования с использованием рассмотренных моделей.
